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配合物中由于存在配位键,所以配合物都是弱电解质.EDTA滴定中,消除共存离子干扰的通用方法是控制溶液的
配合物中由于存在配位键,所以配合物都是弱电解质.EDTA滴定中,消除共存离子干扰的通用方法是控制溶液的
配合物中由于存在配位键,所以配合物都是弱电解质.
EDTA滴定中,消除共存离子干扰的通用方法是控制溶液的酸度.
Al3+和Fe3+共存时,可以通过控制溶液pH,先测定Fe3+,然后提高pH,再用EDTA直接滴定Al3+.
wanshuaifeng
1年前他留下的回答
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再恋天空
网友
该名网友总共回答了16个问题,此问答他的回答如下:采纳率:75%
1、配合物不少由内界和外界构成,如配合物氯化四氨合铜(II)[Cu(NH3)2]Cl2,铜氨离子配位键,难电离,但铜氨离子与氯离子间是离子键,强电解质.[Cu(NH3)2]Cl2=Cu(NH3)2+ + 2Cl-
2、混合离子滴定m离子不受N离子干扰的条件:
lg(K'MY*Cm)>=5,
结合具体数据可以计算看Al3+是否会干扰Fe3+的滴定.参看武大《分析化学》四版P117-118
1年前他留下的回答
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